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从65nm到5nm,中国科技巨头打破垄断,刻蚀机打入台积电生产线

[导读]中国半导体设备、材料、技术等多个方面,仍被海外“卡脖子”。好在,我国在刻蚀机领域已经实现突破,据IC Insights数据显示,我国刻蚀设备的国产化率在20%以上,是我国最具优势的半导体设备。

中国半导体设备、材料、技术等多个方面,仍被海外“卡脖子”。好在,我国在刻蚀机领域已经实现突破,据IC Insights数据显示,我国刻蚀设备的国产化率在20%以上,是我国最具优势的半导体设备。


半导体制造需要很多的步骤,刻蚀是半导体制造中十分关键的一环,刻蚀通过物理或化学方法将硅片表面不需要的材料去除,从而将掩膜图形正确的复制到涂胶硅片上。刻蚀过程需要用到刻蚀机这一设备。如今,我国在光刻机领域虽然还难以突破,但在刻蚀机领域,我国已经实现突围。

全球芯片目前处于一个非常关键的时期,一个小小的芯片,可能需要经历很繁琐的制造工艺过程,比如芯片的最初设计,再到制造以及封测,每一个看似独立的过程里却联系十分紧密一段,哪个环节出现问题,这款芯片可能就是白搭了。而在全球市场上和美国相比较,我们的技术应该算得上是比较落后的,因为对于芯片的进口依赖程度非常的高,而自主研发的能力又比较弱。

中微半导体是我国刻蚀机领头羊企业,如今已经打入台积电的生产线,由尹志尧在2004年一手创建。由于众所周知的原因,我国近期在光刻机领域很难有突破了,但是在半导体其他方面还是突破不断,十余年的坚持让中微半导体成功实现了从6.5nm,到最领先的5nm的攻克。而且,中微半导体5nm刻蚀机,还成功打入台积电生产线。为此,中微半导体成为大陆本土设备商中,唯一被台积电认可的厂商。并且手握了将近1142项“刻蚀机”的专利,他们的目标就是下一步走向国际市场。

或许有些人对中微半导体比较陌生,也不明白刻蚀机具体是做什么的。首先中微半导体的创始人是尹志尧,毕业于中国科学技术大学,后海外留学加利福尼亚大学洛杉矶分校,获得物理化学博士学位。中微半导体的实力是不可小觑的,其生产的刻蚀机已经进入到5nm制程阶段,也是中国少数打入台积电供应链的大陆企业。不仅如此,中微半导体也曾为长江存储提供9台刻蚀机设备。该公司在2020年度预计实现归母净利润在4.4亿元到5.2亿元间。相比2019年,归母净利润有望实现同比133.34%到175.77%的增长。中微公司正式成立于2004年,是国产蚀刻机领域当之无愧的龙头企业。短短十几年的时间,中微公司自主研发的蚀刻机精度从65nm一路突飞猛进,升级到5nm。这个过程中,中微公司不仅追平了国际大厂,而且还做到了世界领先水平。

除了中微科技,还有北方华创企业,业绩连续三年复合增长率超过30%,上市十年,一步一步从一家名不见经传的小公司成长为国内集成电路工艺装备的龙头企业,这家公司正是北方华创。北方华创更是成为蚀刻机、PVD、CVD等设备国产化第一先锋。公司2020年净利润在4.6亿到5.8亿之间,同比增长超过48%,在疫情影响下能去如此出色的成绩着实难得。北方华创的刻蚀设备已经覆盖集成电路、LED、先进封装、功率半导体、MEMS微机电系统、化合物半导体、硅基微显、分析仪器、功率器件、光通信器件等多个领域,硅刻蚀机已突破14nm技术,进入主流芯片代工厂。其中,12英寸ICP刻蚀机在实现客户端28nm国产化替代,并在14/7nm SADP/SAQP、先进存储器、3D TSV等工艺应用中发挥着重要作用。

虽然一些“禁令”都让中国企业陷入困境,但我们都知道天无绝人之路,方法总比困难多,中国半导体行业在这些禁令的打压下将会慢慢站起来,摆脱发达国家对于技术的束缚。相信中国必将走出这些困境,成功打破国外的垄断,走出属于自己的半导体之路。

 

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